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半導體集成電路的高速發展是潔凈度等級的擴大和控制微粒粒徑日益嚴格的重要標志。

半導體凈化車間設計的設計范圍包括：裝修方案（圍護、地面防水保溫處理），暖通方案（空調設備、風管、水管等），特氣供應方案（特氣柜含保險控制、房間氣體監測、EP級管道及BA級管道、供氣管路尾氣處理），壓縮空氣方案，廢氣處理方案（儀器設備POU處理、房間排風廢氣處理），電氣方案（空調設備動力配電等），弱電工程，集成控制智能平臺，純水方案（冷卻水、去離子水、超純水、水管等），廢水處理。

一、我國潔凈廠房、潔凈室的標準規范主要有：

1. GB50073 潔凈廠房設計規范

2. GB50457 醫藥工業潔凈廠房設計規范

3. GB50472電子工業潔凈廠房設計規范

4. GB50591 潔凈室施工及驗收規范

5. GB50333醫院手術部建筑技術規范

6. GB50346生物安全實驗室建筑技術規范

二、結構圍護工程

墻板及吊頂：本工程隔墻采用企口型機制玻鎂巖棉夾芯板0.426，玻鎂巖棉彩鋼板符合潔凈廠房二級消防要求，玻鎂巖棉彩鋼夾芯板具有1000℃的耐火性能，耐火等級達到A級。巖棉密度：≥1000kg/m3；導熱系數：≤0.046w/m.k；燃燒性能：A級（不燃）。耐火極限為30~120分鐘。廣泛應用于食品、電子、醫藥、飲料、生物研究等行業。

地板：車間內采用防靜電型PVC地板，其中千級和百級車間采用防靜電型架高鋼板，其它為普通型PVC地板。PVC地板是當今世界上非常流行的一種新型輕體地面裝飾材料，也稱為“輕體地材”使用非常廣泛，比如家庭、醫院、學校、辦公樓、工廠、公共場所、超市、商業等各種場所。

三、暖通工程

設備：空調制冷負荷：經統計計算，總冷負荷約500KW。采用恒溫恒濕潔凈空調，夏季采用磁懸浮水冷機組，冬季采用廠區鍋爐熱水供熱。

風管：風管采用共板法蘭風管。

水管：空調水管采用無縫鋼管。水泵采用星-三角降壓啟動。

四、特種氣體工程

工藝氣體種類多，純度高，并且易燃易爆有毒。安全問題突出，為保證系統的安全和穩定可靠，建議采用進口成熟產品。

因為 MOCVD 生長使用的源是易燃、易爆、毒性很大的物質，并且要生長多組分、大面積、薄層和超薄層異質材料，因此在MOCVD 系統的設計思想上，通常要考慮系統密封性要好，流量、溫度控制要明確，組分變換要迅速，系統要緊湊等。核心工作是氣體輸運系統和尾氣處理系統。

五、空壓氣體工程

螺桿式空壓機組主要主要有以下系統組成：空氣流程系統、潤滑油流程系統、冷卻系統、安全保護系統、控制系統及電氣線路。螺桿式空壓機組主要有壓縮機、電動機、空氣濾清器、進氣閥、油氣桶、空氣冷卻器、潤滑油冷卻器壓力開關、單向閥、儲氣罐、壓力表、自動排水器、安全閥等設備部件。另外在空壓機系統中大多配置冷干機和空氣干燥器。

六、廢氣工程

由于半導體工藝對操作室清潔度要求高，通常使用風機抽取工藝過程中揮發的各類廢氣，因此半導體行業廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發為主。表中給出了不同生產工藝排放的廢氣組成。這些廢氣排放主要可以分為四類：酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體。

七、生產廢氣排放源及組成表

廢氣來源組成外延工序SiH4、SiHCl3、SiH2Cl2、SiCl4、AsH3、B2H6、PH3、HCl、H2清洗工序H2SO4、H2O2、HNO3、HCl、HF、H3PO4、NH4F、NH4OH 等光刻工序異丙醇、醋酸丁酯、甲苯、Cl2、BCl3、C2F6、C3F8、CF4、SF6、HF、HCl、NO、C3H8、HBr、H2S 等化學機械拋光NH4OH、NH4Cl、NH3、KOH、有機酸鹽化學氣相沉淀SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、SiF4、CF4、B2H6、PH3、NF3、HCl、HF、NH3擴散、離子注入BF3、AsH3、PH3、H2、SiH4、SiH2Cl2、BBr3、BCl3、B2H6金屬化工序SiH4、BCl3、AlCl3、TiCl4、WF6、TiF4、SiF4、AlF3、BF3、SF6等 對酸性氣體、堿性氣體的處理一般都采用濕式洗滌塔技術。

對于有機廢氣采用吸附、焚燒或兩者相結合的處理方法。因為半導體工藝過程中有機廢氣具有排放流量大（通常大于11039 m3/小時）和濃度低（通常小于25ppmv）的特點，使用其它的處理技術難以達到令人滿意的處理效率。沸石濃縮轉輪后再吸附或焚燒。